Resumo: Neste trabalho foram investigados os processos de deposição a
plasma de filmes finos de óxido de titânio e da formação de partículas
nas descargas empregadas nas deposições. Os filmes foram produzidos por
uma técnica inédita de deposição derivada a partir do PECVD (Plasma
Enhanced Chemical Vapor Deposition) convencional. Nesta técnica,
inteiramente desenvolvida neste trabalho e que denominamos PECVD
modificado, os filmes são depositados sobre um terceiro eletrodo
posicionado fora da região intensa do plasma. As amostras produzidas a
partir de plasmas de misturas de tetraisopropoxititânio (TiPT)-He-Ar e
TiPT -He-O2, em diferentes condições de pressão no reator, temperatura e
polarização do substrato foram analisadas pelas espectroscopias de
reflexão-absorção no infravermelho (IRRAS), fotoelétrons de raios-X
(XPS), retroespalhamento Rutherford (RBS) e de transmissão no
ultravioleta-visível (UV-VIS). Além disto foram também empregadas
difração de raios-X (XRD), microindentação e o método das duas pontas de
medida de resistividade elétrica. A formação de partículas nos plasmas
foi investigada por imageamento CCD, espalhamento de laser (LLS),
espectroscopia de emissão óptica actinométrica (EEOA), sonda de
Langmuir, microscopia eletrônica de varredura (SEM) e microanálise
eletrônica (EPMA)
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