Resumo: Neste trabalho foram estudadas as propriedades morfológicas,
estruturais e elétricas de filmes finos de TiOx depositados pelo método
de rf-sputtering em função da temperatura de aquecimento do substrato
(Ts) e do fluxo de oxigênio (FO2). Também foi explorada a possibilidade
de aplicação dos filmes na detecção de fenol em água através da medida
da fotocorrente em uma célula fotoeletroquímica com eletrodo de TiOx.O
valor de x foi obtido por espectrometria de retroespalhamento Rutherford
(RBS), a razão anatase/rutilo (A/R) e o tamanho de grão (D) por
difração de raios-X (XRD), e a morfologia e a rugosidade por microscopia
de força atômica (AFM). Os estados de oxidação foram determinados por
espectroscopia de fotoelétrons (XPS). A eficiência de conversão fóton ?
elétron ( f ) foi determinada a partir de medidas da fotocorrente na
célula fotoeletroquímica. A maioria dos filmes obtidos é
subestequiométrica (1.80
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