Bem vindo ao blog de discussões referentes à análise e modificação de materiais por feixes iônicos e suas contribuições nas diversas áreas da Ciência.
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6 de ago. de 2012
Electrical and optical properties of defects formed by ion implantation
Uma apresentação entitulada "Electrical and optical properties of
defects formed by ion implantation" proferida por Brett C. Johnson da
School of Physics da University of Melbourne, Australia.
3 de mar. de 2012
Nanoestruturas luminescentes ß-FeSi 2 produzidas pela técnica de implantação e irradiação iônica : caracterização estrutural e óptica
Neste trabalho, apresentamos um estudo sistemático das propriedades
estruturais e ópticas de nanopartículas FeSi2, sintetizadas em matriz
SiO2/Si por implantação iônica, seguida de cristalização epitaxial
induzida por feixe de íons (IBIEC) e tratamentos térmicos em atmosfera
95 % N2 - 5 % H2. A cada etapa do processo de síntese, a formação e
crescimento de nanopartículas FeSi2, bem como a produção de defeitos,
foi caracterizada estruturalmente e correlacionada com as propriedades
de emissão de luz. Para fins de interpretação dos resultados, um
conjunto de amostras contendo Ni foi sintetizado nas mesmas condições
experimentais que as amostras de Fe e suas propriedades estruturais e
ópticas também foram estudadas. Através do processo de recristalização
IBIEC obtivemos importantes informações sobre as propriedades
vibracionais da fase metálica γ-FeSi2 e sua metaestabilidade quando
formada a baixa concentração de Fe. Em particular, a transição desta
fase via temperatura de recozimento para a fase semicondutora β-FeSi2
foi investigada detalhadamente. A natureza do gap fundamental de energia
do composto semicondutor também foi avaliada. Em experimentos em função
da temperatura de tratamento térmico, observou-se que concomitantemente
à formação e crescimento de nanopartículas semicondutoras, existe uma
complexa evolução de defeitos opticamente ativos. De acordo com a
temperatura de recozimento, bandas de fotoluminescência (PL) na região
espectral do infravermelho próximo (0.7 eV - 0.9 eV) com diferentes
intensidades e morfologias foram detectadas a 2 K. Baseado nos
resultados das caracterizações estruturais e ópticas do sistema SiO2/Si +
nanopartículas FeSi2, juntamente com resultados PL experimentais
comparativos da formação do composto metálico NiSi2, as origens físicas
das distintas luminescências observadas foram discriminadas em termos de
emissões intrínsecas do semicondutor β-FeSi2 e de específicos tipos de
defeitos na matriz de Silício que atuam como centros de recombinação
radiativa.
[Link]
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16 de dez. de 2011
Electrical and optical properties of defects formed by ion implantation
Uma apresentação entitulada "Electrical and optical properties of defects formed by ion implantation" proferida por Brett C. Johnson da School of Physics da University of Melbourne, Australia.
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