Bem vindo ao blog de discussões referentes à análise e modificação de materiais por feixes iônicos e suas contribuições nas diversas áreas da Ciência.
20 de mai. de 2012
Crescimento e caracterização de ligas semicondutoras III-V obtidas pelo metodo dos organometalicos (MOVPE)
Apresentamos neste trabalho os aspectos mais importantes da técnica
MOVPE com ênfases na construção do sistema, no crescimento de camadas
epitaxiais e na caracterização destes. Relataremos a utilização de dois
sistemas: um que participamos do projeto e construção e operamos à
pressão atmosférica e o aprimoramento e utilização de um outro sistema
que funciona a baixa pressão. Nos sistemas acima citados obtivemos
materiais básicos e estruturas quânticas de: GaAs, GaAlAs, InP, GaInAs,
AlGaInAs e GaInAsP, estruturas estas que possuem o mesmo parâmetro de
rede que o substrato. Obtivemos também estruturas tensionadas do tipo
GaInAs/GaAs, onde o substrato e as camadas possuem parâmetros de rede
diferentes. A qualidade destes crescimentos foi avaliada através de
várias técnicas de caracterização como fotoluminescência, efeito Hall,
ataques químicos, microscopia óptica e eletrônica, AES, TEM, SIMS, etc.
Estruturas de dispositivos laser de GaAs/GaAlAs e AlGaAs/InP também
serão apresentadas. A parte inicial deste trabalho é dedicada à
descrição de vários métodos de crescimento e à comparações entre eles.
Em seguida apresentamos o projeto, construção e utilização do sistema
MOVPE. Nos capítulos seguintes serão apresentadados o crescimento e
caracterização de camadas binárias, ternárias e quaternárias; incluindo
no capítulo IV a solução do problema de flutuação de composição,
reportada na literatura mas sem que tenha sido encontrada a causa real
desta. No Anexo 1 apresentamos a literatura publicada ou apresentada
durante o trabalho de lactação desta tese. Para acessar a Tese, clique aqui.
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